2026年9月14日，国家知识产权局局务会议审议通过《集成电路布图设计保护条例实施细则》（国家知识产权局令第86号），自2026年10月30日起施行。该细则是修订后《集成电路布图设计保护条例》（国务院令第842号，2026年10月15日施行）的重要配套规章，二者共同构建集成电路知识产权保护的制度闭环。

修订后的条例自2026年10月15日起施行，共6章54条，扩展了保护范围、强调诚实信用，完善了申请和审查程序，加大侵权赔偿力度，并明确对故意侵权、情节严重的可适用1倍以上5倍以下的惩罚性赔偿。实施细则进一步细化了布图设计登记、审查、撤销以及非自愿许可等操作规则，使条例的原则性规定更具可操作性。

根据条例，受保护的布图设计应具有独创性，专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。申请人应提交登记申请表、复制件或者图样、独创性声明等材料；已投入商业利用的，还应提交含有该布图设计的集成电路样品。细则对审查程序、驳回与撤销、权利恢复等作出具体安排，并明确当事人因正当理由延误期限可请求恢复权利。

在权利行使方面，条例规定布图设计专有权可以转让、许可或者出质，转让自登记之日起生效，许可使用应自合同生效之日起3个月内备案。细则相应明确办理流程，便于权利人依法运用知识产权。条例还设置了反向工程、独立创作等合理使用的例外情形，平衡了保护与创新的关系。

对集成电路企业和研发机构而言，实施细则的施行意味着登记保护体系更加完善。企业应重视布图设计的创作记录与登记申请，在委托开发、合作开发中通过合同约定专有权归属，并善用合理使用规则开展兼容设计与技术创新，从而更好地维护自身合法权益、激发产业创新活力。