《集成电路布图设计保护条例》是保护集成电路布图设计专有权、鼓励集成电路技术创新的重要行政法规，此次为2001年原条例公布施行以来的全面修订。

制定机关：国务院，以第842号国务院令公布，由国务院总理李强签署。

公布与施行日期：2026年8月3日公布，自2026年10月15日起施行。

核心内容要点：修订完善申请与审查程序，要求登记申请以真实创作活动为基础，增加独创性声明，并规定登记不符合规定的可予以驳回或依请求撤销，被撤销的专有权视为自始不存在。在专有权保护方面，明确侵权赔偿依权利人实际损失或侵权人获利确定，难以确定的参照许可使用费合理倍数，情节严重的适用惩罚性赔偿。在促进运用方面，要求有关部门加强公共服务，法人或非法人组织应依法对创作人员给予合理奖励和报酬，并完善转让、许可、出质等要求。

制定背景：集成电路是数字经济和高端制造的核心基础，布图设计是其创新成果的重要载体。随着技术和产业快速发展，原有制度已难以适应实践需要，有必要予以修订完善。

施行意义：此次修订强化登记质量与权利保护，既遏制抄袭仿冒，又畅通成果转化通道，对激励集成电路领域原始创新、支撑科技自立自强具有积极作用。

例如，一家芯片设计企业完成布图设计后，可据此申请登记，获准即取得专有权；若发现他人未经许可复制其布图设计，可主张惩罚性赔偿，并可将布图设计依法转让、许可或出质，盘活无形资产。条例还要求有关部门加强公共服务，为权利人提供查询、预警等支持，降低中小创新主体的维权门槛，夯实我国集成电路产业自主可控的根基。条例的修订与近年来加强知识产权法治保障的部署一脉相承，为集成电路产业高质量发展提供了更完善的制度供给。